現(xiàn)有的界面張力測(cè)試技術(shù)通常包括了稱(chēng)重法、光學(xué)法、大氣泡法或滴體積法等等，而光學(xué)方法目前是*一種可以用于如超高溫條件1600、2000度這樣的高溫或高壓條件100Mpa或真空環(huán)境（加惰性氣體環(huán)境）下測(cè)試的方法。從硬件技術(shù)來(lái)講，目前的高溫爐及高壓爐技術(shù)均已經(jīng)成熟，研制出來(lái)不是很大問(wèn)題。而軟件技術(shù)方面，目前仍停留在相當(dāng)?shù)偷囊粋€(gè)水平上。雖然在國(guó)內(nèi)的應(yīng)用上，已經(jīng)有一些在高溫或真空環(huán)境下測(cè)試界面化學(xué)性質(zhì)有一些研究，但大部分研究停留在表征接觸角方面。雖然有一些研究人員使用了國(guó)外的一些儀器如德國(guó)Kruss或其他同類(lèi)產(chǎn)品，但是，由于界面化學(xué)軟件算法方面不足，實(shí)際指導(dǎo)意義可能不是很大。
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